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產(chǎn)品展示
DPM-MT型Kyoritsu共立多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)
- 公司名稱(chēng)：
- 更新時(shí)間：
- 所 在 地：
- 生產(chǎn)地址：
- 瀏覽次數(shù)：
- 上海益朗儀器有限公司
- 2017-05-26 16:05:34
- 上海市
- 日本
- 1898
【簡(jiǎn)單介紹】
測(cè)量項(xiàng)目：可測(cè)≥70項(xiàng)參數(shù)，并可同時(shí)測(cè)量2個(gè)項(xiàng)目
電 源：3節(jié)電池或AC電源
顯 示：4.7寸大屏幕液晶，有存儲(chǔ)功能，RS232接口輸出數(shù)據(jù)。
如有需求，請(qǐng)上海益朗儀器有限公司
丁成峰
【詳細(xì)說(shuō)明】
Kyoritsu共立多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)
DPM-MT Digital Water Analyzer（Multi Parameter）
Kyoritsu共立多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)，內(nèi)建完善的操作檢量線(xiàn)界面，搭配原廠配制的試藥包，快速方便的檢驗(yàn)水質(zhì)情況，并以mg/L濃度表示。不需要特殊的專(zhuān)業(yè)技術(shù)背景，任何人隨時(shí)隨地都可以很方便的進(jìn)行各項(xiàng)水質(zhì)分析檢驗(yàn)。比起以往的機(jī)型，更提高了他的操作便利性。
特長(zhǎng)： 檢水量?jī)H需1.5mL
內(nèi)建檢量線(xiàn)測(cè)定程序，
可測(cè)定至微量濃度mg/L(ppm)。
彩色熒幕+可觸式面板，操作簡(jiǎn)易。
原廠調(diào)配的試藥，正確方便經(jīng)濟(jì)。
交直流兩用電源，室內(nèi)戶(hù)外都可使用。
搭載記憶卡，記憶測(cè)定時(shí)間、日期、項(xiàng)目及測(cè)定值等等。
儀器規(guī)格：
| 測(cè)定方法（光源） | 吸光光度法（3色LED）470、525、615 nm |
| 采樣裝置 | 1.5 mL 水質(zhì)測(cè)定用器皿 |
| 顯示器 | 4.7英寸（320 × 240像素）彩色液晶顯示器 |
| 操作鍵 | 觸摸屏 |
| 電源 | 6節(jié)AA電池或AC適配器100～240V |
| 數(shù)據(jù)輸出 | RS-232C輸出的打印機(jī)內(nèi)存卡存儲(chǔ) |
| 其他 | 日歷功能恢復(fù)功能 |
| 尺寸 重量 | 240W×134D×74H mm 約1kg |
測(cè)定項(xiàng)目：
| 測(cè)定范圍（mg/L） | 測(cè)定時(shí)間 | 試藥型式 | 試藥No. | 備注 | |
| 鋁 | 0.050～0.400 | 5分 | LR-Al | 24 | |
| 砷 | 0.20～3.00 | 30分 | DPR-As | － | |
| 硼(高濃度) | 5.0～40.0 | 12分 | WAK-B(C) | － | |
| 硼 | 0.50～4.00 | 40分 | WAK-B | － | |
| 鈣 | 0.5～15.0 | 2分 | LR-Ca-B | 48 | |
| 氯化物 | 2.0～40.0 | 3分 | LR-Cl | 10 | |
| 殘留氯 | 2～320 | 1分 | WAK-ClO(C) | － | |
| 殘留氯(游離) | 0.10～3.00 | 1分 | WAK-ClODP | － | |
| 總殘留氯 | 0.10～3.00 | 2分 | WAK-TClO | － | |
| 二氧化氯 | 0.20～6.00 | 1分 | WAK-ClO2 | － | |
| 游離氰 | 0.020～0.400 | 10分 | WAK-CN | － | |
| 總氰 | 0.10～3.00 | 〔18分〕 | LR-CNT | 46 | 需總氰檢定器 |
| COD | 2.0～10.0 | 10分 | LR-COD-B | 44 | |
| 色度 | 100～1000度 | － | － | － | |
| 六價(jià)鉻 | 0.050～1.400 | 2分 | WAK-Cr6+ | － | |
| 總鉻 | 0.050～1.400 | 〔12分〕 | Cr-RA+WAK-CrT | － | 需加熱器具 |
| 銅 | 0.10～5.00 | 1分 | WAK-Cu | － | |
| 陰離子界面活性劑 | 0.05～1.20 | 3分 | WA-DET | － | |
| 溶解氧 | 1.0～11.0 | 2分 | AZ-DO-30等 | － | 需適配器 |
| 氟 | 0.40～1.50 | 15分 | WAK-F | － | |
| 鐵 | 0.20～5.00 | 3分 | WAK-Fe | － | |
| 鐵(低濃度) | 0.05～2.00 | 3分 | WAK-Fe(D) | － | |
| 二價(jià)鐵 | 0.20～5.00 | 3分 | WAK-Fe2+ | － | |
| 二價(jià)鐵(低濃度) | 0.05～2.00 | 3分 | WAK-Fe2+(D) | － | |
| 甲醛 | 0.20～1.00 | 5分 | WAK-FOR | － | |
| 過(guò)氧化氫(高濃度) | 3～200 | 1分 | WAK-H2O2(C) | － | |
| 過(guò)氧化氫 | 0.10～2.50 | 2分 | WAK-H2O2 | － | |
| 鉀 | 2.00～8.00 | 5分 | LR-K | 36 | |
| COD | 2.0～10.0 | 10分 | LR-COD-B | 44 | |
| 錳 | 0.60～20.0 | 3分 | WAK-Mn | － | |
| 銨鹽 | 0.20～5.00 | 10分 | WAK-NH4 | － | |
| 氨氮 | 0.20～4.00 | 10分 | WAK-NH4 | － | |
| 銨鹽(低濃度) | 0.05～2.00 | 30分 | LR-NH4-A | 17A | |
| 氨氮(低濃度) | 0.05～1.50 | 30分 | LR-NH4-A | 17A | |
| 鎳 | 1.00～8.00 | 5分 | LR-Ni | 27 | |
| 鎳(DPM) | 0.30～5.00 | 5分 | WAK-Ni(D) | － | |
| 亞硝酸鹽(高濃度) | 5～100 | 5分 | WAK-NO2(C) | － | |
| 亞硝態(tài)氮(高濃度) | 2.0～30.0 | 5分 | WAK-NO2(C) | － | |
| 亞硝酸鹽 | 0.020～1.000 | 3分 | WAK-NO2 | － | |
| 亞硝態(tài)氮 | 0.010～0.300 | 3分 | WAK-NO2 | － | |
| 硝酸（高濃度）(NO2≦1) | 200～2000 | 5分 | WAK-NO3(C) | － | |
| 硝酸（高濃度）(NO2≦10) | 200～2000 | 〔10分〕 | NO3-RA+WAK-NO3(C) | － | 需加熱器具 |
| 硝態(tài)氮（高濃度）(NO2-N≦0.3) | 45～450 | 5分 | WAK-NO3(C) | － | |
| 硝態(tài)氮（高濃度）(NO2-N≦3) | 45～450 | 〔10分〕 | NO3-RA+WAK-NO3(C) | － | 需加熱器具 |
| 硝酸(NO2=0) | 1.0～25.0 | 5分 | WAK-NO3 | － | |
| 硝酸(NO2≦0.2) | 1.0～25.0 | 〔8分〕 | WAK-NO2+WAK-NO3 | － | |
| 硝酸(NO2≦5) | 1.0～25.0 | 〔10分〕 | NO3-RA+WAK-NO3 | － | 需加熱器具 |
| 硝態(tài)氮(NO2-N=0) | 0.20～5.80 | 5分 | WAK-NO3 | － | |
| 硝態(tài)氮(NO2-N≦0.06) | 0.20～5.80 | 〔8分〕 | WAK-NO2+WAK-NO3 | － | |
| 硝態(tài)氮(NO2-N≦1.5) | 0.20～5.80 | 〔10分〕 | NO3-RA+WAK-NO3 | － | 需加熱器具 |
| 臭氧 | 0.25～6.00 | 2分 | WAK-O3 | － | |
| 鉛 | 0.03～0.50 | 12分 | SPK-Pb | － | |
| * | 0.20～5.00 | 8分 | WAK-PNL | － | |
| 磷酸（高濃度） | 2.0～30.0 | 3分 | WAK-PO4(C) | － | |
| 磷酸態(tài)磷（高濃度） | 0.70～10.00 | 3分 | WAK-PO4(C) | － | |
| 磷酸 | 0.10～5.00 | 3分 | WAK-PO4 | － | |
| 磷酸態(tài)磷 | 0.030～1.500 | 3分 | WAK-PO4 | － | |
| 磷酸（低濃度） | 0.10～3.00 | 5分 | WAK-PO4(D) | － | |
| 磷酸態(tài)磷（低濃度） | 0.030～1.000 | 5分 | WAK-PO4(D) | － | |
| 硫化物 | 0.050～0.800 | 3分 | LR-S | 53 | |
| 硅酸鹽 | 3.0～60.0 | 8.5分 | WAK-SiO2 | － | |
| 硅酸鹽（低濃度） | 0.30～7.00 | 8.5分 | WAK-SiO2(D) | － | |
| SO4 | 10～100 | 3分 | DPR-SO4 | － | |
| 總硬度 | 20～100 | 2分 | WAK-TH | － | |
| 總氮 | 0.5～7.0 | 〔30分〕 | DPR-TN | 需有機(jī)物分解裝置 | |
| 總磷 | 0.10～2.00 | 〔30分〕 | DPR-TP | － | 需有機(jī)物分解裝置 |
| 濁度 | 10.0～100.0度 | － | － | － | |
| 鋅 | 0.10～2.00 | 5分 | LR-Zn | 26 | |
| 鋅 KCN法 | 0.15～2.00 | 6分 | LR-ZnB | 26B | 需KCN |
| 鋅(低濃度) | 0.03～0.40 | 6分 | WAK-Zn(D) | － | |
| 吸光度 | -3.000～3.000Abs | － | － | － |
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