電子元器件作為核心零部件，是戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點領(lǐng)域之一，也是支撐新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點基礎(chǔ)產(chǎn)品。近年來，電子元器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展勢頭迅猛，產(chǎn)業(yè)規(guī)模與質(zhì)量效益同步實現(xiàn)，為經(jīng)濟發(fā)展提供了強勁動力。

　　電子元器件產(chǎn)業(yè)鏈的上游是原材料，主要包括光電材料、半導體材料、磁性材料等。在半導體生產(chǎn)中，超純水用于晶圓沖洗、化學稀釋、化工機械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕等多種場合，超純水的質(zhì)量直接關(guān)系到半導體的良品率。萊特萊德EDI超純水設(shè)備采用靶向離子交換系統(tǒng)去除超純水中的硼離子，同時連續(xù)穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水。目前廣泛應(yīng)用于晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍、試劑稀釋、氟化工等領(lǐng)域。

　　萊特萊德EDI超純水設(shè)備是將反滲透系統(tǒng)、EDI裝置和拋光混床工藝，將水中的導電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水設(shè)備的EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，具有非常高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益。精混床經(jīng)過技術(shù)升級后，無需任何操作即可穩(wěn)定運行，出水水質(zhì)可以滿足芯片生產(chǎn)用水的相關(guān)標準，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。

　　萊特萊德EDI超純水設(shè)備產(chǎn)出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，符合半導體元器件生產(chǎn)用水需求。萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定地制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，助力半導體企業(yè)的發(fā)展，從而幫助企業(yè)提高市場競爭力。