太倉希德機械科技有限公司
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*納米研磨均質機對流體物料進行精細加工的機械。它綜合了均質機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均勻度達90%以上，是超微粒加工的理想設備。
*納米研磨均質機,*高剪切均質機,*實驗室四級均質機,科研*藥劑均質機
一、*的簡介
*，白色固體或粉末狀的兩性氧化物，分子量：79.9，是一種白色無機顏料，具有無毒、較佳的不透明性、較佳白度和光亮度，被認為是性能較好的一種白色顏料。鈦白的粘附力強，不易起化學變化。廣泛應用于涂料、塑料、造紙、印刷油墨、化纖、橡膠、化妝品等工業(yè)。它的熔點很高，也被用來制造耐火玻璃，釉料，琺瑯、陶土、耐高溫的實驗器皿等。
同時，*有較好的紫外線掩蔽作用，常作為防曬劑摻入紡織纖維中，超細的*粉末也被加入進防曬霜膏中制成防曬化妝品。
*可由金紅石用酸分解提取，或由四氯化鈦分解得到。*性質穩(wěn)定，大量用作油漆中的白色顏料，它具有良好的遮蓋能力，和鉛白相似，但不像鉛白會變黑；它又具有鋅白一樣的持久性。
二、*的研磨
生產出來的*有時品質不高，粒徑為微米級，在后期應用過程中需要進一步的研磨細化粒徑，結合多家客戶案例，*XMD2000系列高剪切膠體磨進行研磨細化處理，一般循環(huán)處理，粒徑可至納米級。XMD2000系列高剪切膠體磨，有著18000rpm的轉速，三層錯齒結構的高精密磨頭，研磨細化效率高。
三、*膠體磨介紹：
1、SID膠體磨具有設計緊湊、實用方便，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經久耐用、適應范圍廣、生產效益高等特點、是處理精細物料理想的加工設備。
2、SID高剪切膠體磨是對流體物料進行精細加工的機械。它綜合了均質機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均勻度達90%以上，是超微粒加工的理想設備。
3、該機適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質的粉碎、乳化、均質和混合，主要技術指標已達到國外同類產品的*水平。
四、影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
1、膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
2、膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
3、物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
4、循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
六、超高速膠體磨與國內膠體磨的性能比較：
1、轉速和剪切速率：納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440S-1通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍
2、膠體磨頭和間距：納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，XM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
3、機械密封：納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至低，可24小時不停運轉國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
七、XMDS2000系列*納米研磨均質機型號表
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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