上海思峻機械設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品型號GMSD2000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海
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更新時間：2018-08-14 10:00:56瀏覽次數(shù)：645次
聯(lián)系我時，請告知來自 泵閥商務(wù)網(wǎng)多孔性無定型二氧化硅研磨分散機是對流體物料進行精細加工的機械，綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均質(zhì)度達90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。
一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述
疏水白炭黑研磨分散機 多孔性無定型二氧化硅研磨分散機，高速研磨分散機，高剪切研磨分散機分體式研磨分散機，管線式研磨分散機，不銹鋼研磨分散機，研磨分散機價格，研磨分散機廠家
二、疏水白炭黑的介紹
疏水白炭黑是一種多孔性無定型二氧化硅，呈白色粉末狀，其初生粒徑為納米顆粒，zui終粒徑2～3um ，它和橡膠、塑料、涂料混和后，能使產(chǎn)品具有各種良好的物理性能，它作為天然橡膠及人造橡膠淺色制品的良好填充劑，一方面減少橡膠的用量，降低成本，另一方面能提高橡膠制品的硬度，耐磨性，減少變形，增加耐油性；用于乳膠塑料皮革，輕質(zhì)材料制品中，則易于脫膜和成型，減輕制品的重量；用于電線電纜中，能提高其絕緣性能；用于油漆油墨中，則是良好的增稠劑；用于涂料則具有的耐高溫性能，因而本品被廣泛用于橡膠、塑料、制革、油漆、體育文化用品等行業(yè)。
疏水白炭黑具有*的表面活性，在某些橡膠制品中具有透明、半透明性質(zhì)；特別適宜做淺色、艷色、透明、半透明橡膠制品。此外，可作為乳膠的隔離劑、油漆油墨的防沉劑、增稠劑、觸變劑，各種塑料箔膜的張口劑；農(nóng)藥顆粒劑、分散劑；粘合劑材料和輕質(zhì)材料制品以及牙膏磨料等，并可用于中高檔原子灰系列產(chǎn)品
三、研磨分散機的介紹
GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比研磨分散機GM2000的效果更加理想。
四、研磨分散機的工藝
GM2000系列多孔性無定型二氧化硅研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機比普通的臥式研磨分散機的速度達到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達到18000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
五、研磨分散機在設(shè)計上的突出優(yōu)點在于：
1、轉(zhuǎn)速14000rpm，相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約三倍：
2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計,使之研磨作用力更大，效果更好。
3、德國進口雙端面機械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4、GM2000/4中試型研磨分散機與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機器型號升級到工業(yè)化的過程中的風險降到更低。
六、研磨分散機的原理
SGN研磨分散機是對流體物料進行精細加工的機械。它綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均質(zhì)度達90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。
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